Apparatus for generating plasma using dual plasma source and apparatus for treating substrate comprising the same

이중 플라즈마 소스를 이용한 플라즈마 생성 장치 및 그를 포함하는 기판 처리 장치

Abstract

본 발명은 이중 플라즈마 소스를 이용한 플라즈마 생성 장치 및 그를 포함하는 기판 처리 장치에 관한 것이다. 본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 생성 장치는, RF 신호를 공급하는 RF 전원; 플라즈마가 생성되는 공간을 제공하는 플라즈마 챔버; 상기 플라즈마 챔버의 일 부분에 설치되어 플라즈마를 생성하는 제 1 플라즈마 소스; 및 상기 플라즈마 챔버의 타 부분에 설치되어 플라즈마를 생성하는 제 2 플라즈마 소스를 포함하되, 상기 제 2 플라즈마 소스는: 상기 플라즈마 챔버의 둘레를 따라 형성되며, 내부에 공정 가스가 주입되어 상기 플라즈마 챔버로 이동하는 가스 이동 경로가 마련된 다수의 절연 루프; 및 상기 절연 루프에 결합되고, 상기 RF 신호를 인가받아 상기 가스 이동 경로를 통해 이동하는 상기 공정 가스를 플라즈마 상태로 여기시키는 다수의 전자장 인가기;를 포함할 수 있다.

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Patent Citations (4)

    Publication numberPublication dateAssigneeTitle
    JP-2008243917-AOctober 09, 2008Ulvac Japan Ltd, 株式会社アルバックPlasma treatment apparatus
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